Pregunta: El espesor de la fotoprotección aplicada a las obleas en una fabricación de semiconductores en un lugar particular en el la oblea se distribuye uniformemente entre 0,2050 y 0,2150 micrómetros. (a) Determine la distribución acumulativa función del espesor fotorresistente.

El espesor de la fotoprotección aplicada
a las obleas en una fabricación de semiconductores en un lugar particular en el
la oblea se distribuye uniformemente entre 0,2050 y 0,2150 micrómetros.

(a) Determine la distribución acumulativa
función del espesor fotorresistente.

(b) Determine la proporción de obleas
que supera los 0,2125 micrómetros de espesor fotorresistente.

(c) ¿Qué espesor se excede en un 10% de
las obleas?

(d) Determine la media y la varianza de
espesor fotorresistente.