Pregunta: En un proceso de fabricación, se une una película transparente a un sustrato, como se muestra en el esquema. Para curar la unión a una temperatura T0, se usa una fuente radiante para proporcionar un flujo de calor q″0 (W/m2), todo el cual se absorbe en la superficie unida. La parte posterior del sustrato se mantiene en T1 mientras que la superficie libre de

En un proceso de fabricación, se une una película transparente a un sustrato, como se muestra en el esquema. Para curar la unión a una temperatura T0, se usa una fuente radiante para proporcionar un flujo de calor q″0 (W/m2), todo el cual se absorbe en la superficie unida. La parte posterior del sustrato se mantiene en T1 mientras que la superficie libre de la película se expone al aire en T∞ y un coeficiente de transferencia de calor por convección h.

Suponga las siguientes condiciones: T∞ = 20 °C, h = 50 W/m2 ⋅ K y T1 = 30 °C. Calcule el flujo de calor q″0 que se requiere para mantener la superficie adherida a T0 = 60 °C.
a.
0,010 W/m^2
b.
100W/m^2
C.
0,020 W/m^2
d.
2833 W/m^2