Pregunta: En la fabricación de semiconductores, el grabado químico húmedo se usa a menudo para eliminar el silicio de la parte posterior de las obleas antes de la metalización. La tasa de grabado es una característica importante en este proceso y se sabe que sigue una distribución normal. Se compararon dos soluciones de grabado diferentes, usando dos muestras

En la fabricación de semiconductores, el grabado químico húmedo se usa a menudo para eliminar el silicio de la parte posterior de las obleas antes de la metalización. La tasa de grabado es una característica importante

en este proceso y se sabe que sigue una distribución normal. Se compararon dos soluciones de grabado diferentes, usando dos muestras aleatorias de 10 obleas para cada solución. lo observado

Las tasas de grabado son las siguientes (en milésimas de pulgada por minuto):

Solución 1 9,9 9,4 9,3 9,6 10,2 10,6 10,3 10,0 10,3 10,1

Solución 2 10,2 10,6 10,7 10,4 10,5 10,0 10,2 10,7 10,4 10,3

a. Calcule la media muestral y la varianza estándar para cada muestra.

b. Realice una prueba de hipótesis para comprobar si las tasas medias de grabado son las mismas para las dos soluciones diferentes con un nivel de significancia de 0,05.

C. ¿Qué suposiciones se requieren para asegurar la validez de la prueba en (b)?