Pregunta: El grosor de la fotoprotección aplicada a las obleas en una fabricación de semiconductores en un lugar particular de la oblea se distribuye uniformemente entre 0,2050 y 0,2150 micrómetros. (a) Determine la función de distribución acumulada del espesor de la fotoprotección.

El grosor de la fotoprotección aplicada a las obleas en una fabricación de semiconductores en un lugar particular de la oblea se distribuye uniformemente entre 0,2050 y 0,2150 micrómetros.

(a) Determine la función de distribución acumulada del espesor de la fotoprotección.

(b) Determine la proporción de obleas que excedan los 0,2125 micrómetros de espesor de fotorresistencia.

(c) ¿Qué espesor excede el 10% de las obleas?

(d) Determine la media y la varianza del espesor de la fotorresistencia.